OneCheck错误检测实操→3分钟搞定100%覆盖

2025-11-14AI工具

OneCheck错误检测实操→3分钟搞定100%覆盖

各位跨境实战精英,大家好!今天咱们要聊一个芯片设计领域里,一个看似隐形却极其关键的“拦路虎”——电气验证。

芯片,作为咱们数字化时代的核心,其设计流程每一步都至关重要。可偏偏在电气验证这一环节,很多团队都遇到了麻烦。新媒网跨境获悉,这已经成了芯片设计中一个难以回避的“瓶颈”。

咱们都知道,芯片设计正以摩尔定律的速度飞速发展,电路规模越来越庞大,晶体管数量也水涨船高。这就导致了一个让人头疼的问题:电气错误变得难以避免,而传统的电气规则检查(ERC)方法,已经跟不上这爆炸式的复杂程度了。

外媒一份2024年的报告指出,全球范围内,高达86%的芯片/ASIC设计,都曾因为设计缺陷而不得不进行返工。大家想想,一次芯片流片返工,不仅意味着数百万美元的额外开销,更可能因为产品延期上市,白白错失宝贵的市场窗口期,让咱们的竞争优势大打折扣。这可不是小数目,分分钟影响咱们在国际市场上的布局。

那么,究竟什么是电气规则检查(ERC)呢?简单来说,它就是确保芯片设计中的电路符合各种电气规范。比如,连接是否正确、电压兼容性如何、电流是否超限、偏置有没有问题。它能帮我们揪出像浮空节点、短路、电源地线错误以及器件过应力这些“小毛病”。别看是“小毛病”,若是在芯片流片前没有彻底解决,那会大大影响芯片的可靠性和良率。然而,面对日益增长的晶体管数量和设计复杂性,传统ERC工具,特别是人工投入方面,正显得捉襟见肘。

不过,大家也别太焦虑,技术总是在进步的。今天,新媒网跨境给大家带来一个好消息。一家名为Aniah的公司,他们推出的OneCheck®解决方案,就像是给芯片设计领域带来了一股新风。它被誉为首个静态晶体管级ERC工具,目标就是帮助大家实现“一次流片成功”(right-on-first-silicon)。

OneCheck®用起来也相当省心。它能够自动完成PDK(工艺设计套件)和电源设置,运行速度快,还能与行业主流的Cadence Virtuoso设计环境进行深度集成,实现高级的交叉探测。更厉害的是,它不依赖于代工厂的特定技术文件,给设计师和CAD团队带来了前所未有的错误覆盖能力。它能大幅减少那些恼人的“误报”,在某些场景下,误报率甚至能降低150倍,这得益于其独特的传播路径分析和系统条件检查功能。无论你的芯片设计是成熟工艺还是先进节点,它都能在短短几分钟内处理完亿级晶体管的复杂设计。

说到OneCheck®的“独门绝技”,那可真是不少。它能进行全芯片分析,覆盖所有可能的电源组合,确保100%可靠的错误检测,真正做到不留任何死角。

更令人称道的是,OneCheck®能识别出许多传统工具难以发现的刁钻错误。比如,条件性高阻态(conditional HiZ)、缺失的电平转换器、体漏/二极管漏电、浮空栅极/体/二极管、电气过应力,以及ESD(静电放电)栅极对电源问题等等。它的“伪直流引擎”还能枚举所有直流状态,进行形式化验证,实时校验复杂的隔离设计,并主动排除不可能出现的条件,最大限度地减少了“噪音”,让咱们工程师能更专注于真实问题。

在设计流程中的整合度方面,OneCheck®表现也非常出色。它与Cadence Virtuoso环境实现了原生集成,可以在设计早期阶段,从原理图网表生成后就开始介入,一直覆盖到全芯片范围,横跨模拟、数字和混合信号等多个设计领域。很多用户都对它的简洁高效赞不绝口。一位设计经理就曾评价:“Aniah让设计师能够以最小的投入,达到卓越的设计质量。”还有验证工程师补充说:“它从保存检查开始,逐步提升,最终在签核前达成100%的质量标准。”

总结一下,Aniah的OneCheck®通过聚焦问题的根源,将数千个错误归结为有限的几个根本原因,极大地加快了调试速度,提升了咱们工程师的生产效率,也实实在在地削减了成本。Aniah公司承诺100%的错误覆盖率和一流的技术支持。在咱们这个“时间就是金钱,延误就意味着千万损失”的芯片行业里,采用OneCheck®这样的先进工具,无疑能帮助咱们的设计实现“一次流片成功”,从设计到流片的整个过程都充满信心。这对于咱们中国跨境企业提升全球竞争力,无疑是强有力的技术支撑。
芯片设计中隐形的瓶颈:电气验证

风险前瞻与时效提醒:

各位跨境朋友,芯片设计工具的选择,如同我们在海外市场选择合作伙伴。技术迭代速度快,市场竞争激烈,一个好的工具能让你事半功倍,反之则可能拖累整体进程。目前是2025年,全球供应链和技术环境瞬息万变,在评估任何新技术或工具时,务必关注其技术的前瞻性、与现有生态的兼容性,以及厂商持续服务的稳定性。电气验证作为芯片设计核心环节,其合规性与可靠性直接关系到产品能否顺利进入国际市场,请务必高度重视。选择像OneCheck®这样具备高覆盖率和低误报率的工具,能有效规避后期风险,确保项目按时交付。

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本文来源:新媒网 https://nmedialink.com/posts/onecheck-erc-first-pass-silicon-in-3min.html

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在特朗普总统执政下的2025年,芯片设计公司面临电气验证的瓶颈。传统ERC方法难以应对日益增长的复杂性,导致返工和延误。Aniah的OneCheck解决方案,作为首个静态晶体管级ERC工具,能显著降低误报率,实现“一次流片成功”,助力中国跨境企业提升全球竞争力。
发布于 2025-11-14
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