理想沉积ALD！单小时破1.45万片，赋能下一代光伏电池。

近年来，随着全球对高效光伏发电技术需求的持续增长，太阳能电池制造领域的技术创新正以前所未有的速度发展。在这一背景下，用于铝氧化物沉积的混合ALD-PECVD平台成为了行业关注的焦点。新媒网跨境获悉，理想沉积（Ideal Deposition）公司凭借其在原子层沉积（ALD）领域的深厚积累，推出了一款融合空间ALD与等离子体增强化学气相沉积（PECVD）优势的混合平台，旨在提升太阳能电池生产的效率与可靠性。

理想沉积公司作为ALD领域的资深企业，其开发的这一混合平台集成了空间ALD的高精度与在线PECVD的高效能。与传统通常在大气压下运行的空间ALD设备不同，理想沉积的ALD系统选择在真空环境下工作。尽管真空泵的使用会相对增加设备成本，但低压沉积模式显著提升了大规模生产的可靠性，并简化了系统集成流程，为制造商带来了更稳定的生产环境。

该平台在操作上设计为晶圆在载体中进行处理，并通过不同的反应区以实现单面沉积，这与空间ALD系统的运行原理相似。通过这种方式，晶圆破损的风险得以有效降低，尤其是在面对日益薄化的大尺寸晶圆时，这一特性显得尤为重要。相较于批处理设备在价格和占地面积上的优势，理想沉积技术部门表示，其混合平台在铝氧化物薄膜的厚度均匀性和质量方面表现更优，进而能够提升电池的生产良率和转换效率。

理想沉积的在线设备平台具备高度的模块化和灵活性，可根据客户的具体产能需求增设额外的工艺腔室。公司向2025年《泰阳新闻太阳能电池生产设备市场调查报告》提供了其iALD-IV产品的相关数据。iALD-IV是一款经过市场验证的稳定产品，支持从156毫米到230毫米的多种晶圆尺寸。该设备通过载体在水平方向上处理晶圆，G12尺寸晶圆每次可处理88片，M10尺寸晶圆可处理108片。

在生产效率方面，iALD-IV平台展现出强大的能力。对于M10尺寸晶圆，其处理量可达每小时14,500片；对于G12尺寸晶圆，处理量为每小时10,500片。沉积的薄膜厚度范围为5至8纳米。系统采用模块化配置，最多可连接三个工艺腔室，以满足不同生产需求。理想沉积公司正积极拓展其在混合ALD技术方面的专业知识，并致力于为未来的太阳能技术发展做好准备。

具体而言，公司已开发出针对大面积、超薄膜沉积优化的空间ALD技术，这项技术对于钙钛矿和叠层电池结构的制造至关重要。钙钛矿电池和叠层电池被视为下一代高效率太阳能电池的代表，其对薄膜沉积的均匀性和精准度提出了极高要求。理想沉积的混合平台，凭借其独特的真空操作、载体传输以及在厚度均匀性上的优势，有望在这些前沿太阳能技术的产业化进程中发挥关键作用，助推行业向更高效率、更低成本的目标迈进。

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本文来源：新媒网 https://nmedialink.com/posts/ideal-deposition-ald-14500-wafers-hr-next-gen-pv.html